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    National Tsing Hua University Institutional Repository > 理學院 > 化學系 > 專利  >  前處理室及使用該前處理室的清潔晶圓的方法


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    Title: 前處理室及使用該前處理室的清潔晶圓的方法
    Authors: 潘,興強;PAN,SHING-CHYANG;林,俊成;LIN,JING-CHENG;李,顯銘;LEE,HSIEN-MING;黃,震麟;HUANG,CHENG-LIN;謝,靜華;HSIEN,CHING-HUA;彭,兆賢;PENG,CHAO-HSIEN;蘇,莉玲;SU,LI-LIN;眭,曉林;SHUE,SHAU-LIN
    教師: 林俊成
    Date: 2005/6/21
    Relation: 專利權人:台灣積體電路製造股份有限公司
    Keywords: 前處理室
    清潔晶圓
    晶圓
    Abstract: 本發明揭示一種反應性的前處理室,其具有一晶圓加熱裝置例如一高溫靜電夾頭(high-temperature electrostatic chuck;HTESC),以在清潔的過程中對承載於其上的一晶圓直接加熱。上述晶圓加熱器係將晶圓加熱至適於反應性的氫氣電漿清潔製程。另外,可以在同一個前處理室內進行清潔與除氣(degassing)。本發明更揭露一種使用該前處理室的清潔晶圓的方法,其中上述前處理室具有一晶圓加熱裝置。
    URI: http://twpat2.tipo.gov.tw/
    http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/58160
    Appears in Collections:[化學系] 專利

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