English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 54367/62174 (87%)
Visitors : 13858727      Online Users : 37
RC Version 6.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTHU Library IR team.
Scope Tips:
  • please add "double quotation mark" for query phrases to get precise results
  • please goto advance search for comprehansive author search
  • Adv. Search
    HomeLoginUploadHelpAboutAdminister Goto mobile version
    National Tsing Hua University Institutional Repository > 理學院 > 化學系 > 專利  >  含碳元件發射電流之提升


    Please use this identifier to cite or link to this item: http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/58174


    Title: 含碳元件發射電流之提升
    Authors: 黃, 國柱;龔, 聖欽;KUNG, SHENG-CHIN
    教師: 黃國柱
    Date: 2004/6/21
    Relation: 專利權人:國立清華大學
    Keywords: 含碳元件
    電流
    體形微小
    碳微管
    Abstract: 本案提供一種技術,用以實現體形微小但電流發射能力好的電流發射裝置,其發射電流所需要的發射電壓可以更低或不變。這電流發射裝置的較佳實現方式是採用碳微管陣列或薄膜。這種技術的主要特徵是,氧化含碳電流發射裝置,直到含碳電流發射裝置有至少一部位變形。經過本案技術處理過的電流發射裝置,變成較能夠搭配顯示器使用或發射較高密度的電流,卻不需要提高發射電壓,反而可以降低發射電壓。根據實驗結果,經過本案技術處理的碳徵管,發射電流的密度達到原碳微管的8倍,而起始發射電壓從原0.8V/mm降到0.5V/mm。
    URI: http://twpat2.tipo.gov.tw/
    http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/58174
    Appears in Collections:[化學系] 專利

    Files in This Item:

    File Description SizeFormat
    2010307060002a.pdf539KbAdobe PDF362View/Open


    在NTHUR中所有的資料項目都受到原著作權保護,僅提供學術研究及教育使用,敬請尊重著作權人之權益。若須利用於商業或營利,請先取得著作權人授權。
    若發現本網站收錄之內容有侵害著作權人權益之情事,請權利人通知本網站管理者(smluo@lib.nthu.edu.tw),管理者將立即採取移除該內容等補救措施。

    SFX Query

    與系統管理員聯絡

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - Feedback