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    Title: 光學微機電元件及其製造方法
    Authors: 吳, 名清;WU, MING-CHING;林, 弘毅;LIN, HUNG-YI;方, 維倫;FANG, WEI-LEUN
    教師: 方維倫
    Date: 2006/2/21
    Relation: 專利權人:華新麗華股份有限公司
    Keywords: 光學微機電元件
    微機電元件
    Abstract: 本發明係提供一種製造光學微機電元件的方法,其包含提供一基質;沈積一氧化物層於該基質上;於該基質上進行複數次蝕刻,以形成複數種深度的溝槽(trench);沈積第一多晶矽層,以回填該溝槽;沈積第一氮化物層與第二多晶矽層於該被回填的溝槽上;移除該第一多晶矽層;沈積第二氮化物層;以及進行一體蝕刻(bulk etching)。
    URI: http://twpat2.tipo.gov.tw/
    http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/58262
    Appears in Collections:[動力機械工程學系] 專利

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