National Tsing Hua University Institutional Repository:Chemical Vapour Deposition of Tantalum Silicide Thin Film from Difluorosilylene and Tantalum Halides
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 54367/62174 (87%)
造訪人次 : 14660096      線上人數 : 84
RC Version 6.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTHU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋
    National Tsing Hua University Institutional Repository > 歷任校長 > 劉兆玄 (1987-1993) > 期刊論文 >  Chemical Vapour Deposition of Tantalum Silicide Thin Film from Difluorosilylene and Tantalum Halides


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/81107


    題名: Chemical Vapour Deposition of Tantalum Silicide Thin Film from Difluorosilylene and Tantalum Halides
    作者: Lee, C. Y.;Huang, J. L.;Liu, C. S.
    教師: 劉兆玄
    日期: 1996
    出版者: Royal Society of Chemistry
    關聯: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, Royal Society of Chemistry, Volume 6, Issue 7, JUL 1996, Pages 1131-1133
    關鍵詞: Silicide
    Difluoro Silylene
    CVD
    Tantalum
    Tantalum Halides
    摘要: Thin films of TaSix have been grown on Si(111), SiO2 and graphite by LPCVD using SiF2 and TaX(5) (X = F, Cl) as the precursors. Thin films prepared at 190-300 degrees C contained polycrystalline TaSi2; 190 degrees C is the lowest temperature reported for the CVD preparation of TaSi2. The compositions of the thin films were found to be 50% TaSi2 and 50% amorphous silicon (a-Si).
    相關連結: http://www.rsc.org/
    URI: http://nthur.lib.nthu.edu.tw/dspace/handle/987654321/81107
    顯示於類別:[劉兆玄 (1987-1993)] 期刊論文
    [化學系] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數
    59.pdf414KbAdobe PDF777檢視/開啟


    在NTHUR中所有的資料項目都受到原著作權保護,僅提供學術研究及教育使用,敬請尊重著作權人之權益。若須利用於商業或營利,請先取得著作權人授權。
    若發現本網站收錄之內容有侵害著作權人權益之情事,請權利人通知本網站管理者(smluo@lib.nthu.edu.tw),管理者將立即採取移除該內容等補救措施。

    SFX Query

    與系統管理員聯絡

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋